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微波介质腔体金属真空镀膜机

主要用于微波介质腔体材料表面蒸镀NiCr、Cu等金属薄膜。 四川金鑫天诚真空设备有限责任公司制造

特性

该设备主要由工作室、真空系统、工件架系统、烘烤系统、蒸发源系统和控制系统(人机界面和PLC)等组成。


工作条件

环境要求,环境温度:10~35℃;

相对湿度:不大于80%;

    设备周围环境整洁,空气清洁,不应有可引起电器及其他金属表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

动力要求,水源: 工业软水,水压0.2~0.3Mpa,水量~50L/min,进水温度≤25℃;气源:气压0.6MPa;

电源:三相五线制220V/380V,50Hz,电压波动范围:三相342~418V,单相198~242V;频率波动范围:49~51Hz;设备消耗功率:~40KW;接地电阻≤4Ω;



:真空电子束蒸发镀膜机 :真空CVD沉积设备 返回列表
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